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石英坩堝的性能


1.石英坩堝可在1450度以下使用,分透明和不透明兩種。用電弧法製的半透明石英坩堝是拉製大直徑單晶矽,發展大規模集成電路必不可少的基礎材料。當今,世界半導體工業發達國家已用此坩堝取代了小的透明石英坩堝。他具有高純度、耐溫性強、尺寸大精度高、保溫性好、節約能源、質量穩定等優點。
2、不能和HF接觸,高溫時,極易和苛性堿及堿金屬的碳酸鹽作用。
3.石英坩堝適於用K2S2O7,KHSO4作熔劑熔融樣品和用Na2S207(先在212度烘幹)作熔劑處理樣品。
4.石英質脆,易破,使用時要注意。
5.除HF外,

目前石英坩堝生產塗層技術已被大多數廠家使用就是在普通石英砂溶製的坩堝表麵塗上一層二氧化鋇溶液使其形成致密層,其致密層能阻止單晶矽高溫拉製過程中矽與石英坩堝反應提高成晶率。